281039 Grundlagen und Anwendungen von weicher Röntgenstrahlung (V) (WiSe 2003/2004)

Kurzkommentar

Inhalt, Kommentar

Einführung in das elektromagnetische Spektrum
Streuprozess von weicher Röntgenstrahlung
Wellengleichung, optische Konstanten, Grenzflächen
Optiken für weiche Röntgenstrahlung : Multilayercoatings, diffraktive Optiken
Quellen weicher Röntgenstrahlung : Synchrotronstrahlung, heiße dichte Plasmen, Röntgenlaser, Hohe Harmonische
Detektoren für weiche Röntgenstrahlung
Kohärenz bei kurzen Wellenlängen
Anwendungen : Röntgenmikroskopie, Röntgenlithographie, EUV Lithographie

Teilnahmevoraussetzungen, notwendige Vorkenntnisse

Festkörper- und Oberflächenphysik

Literaturangaben

Eberhard Spiller : Soft X-ray Optics / (SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, Washington, ISBN 0-8184-1654-1)
D.T. Attwood; Soft X-ray and Extreme Ultraviolet Radiation (Cambridge Univ. Press, ISBN 0 521 65214 6)
u.a.

Lehrende

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Fachzuordnungen

Studiengang/-angebot Gültigkeit Variante Untergliederung Status Sem. LP  
Physik / Diplom (Einschreibung bis SoSe 2008) Wahl 7. HS
Physik / Lehramt Sekundarstufe II Wahl HS
Keine Konkretisierungen vorhanden
Kein Lernraum vorhanden
registrierte Anzahl: 0
Dies ist die Anzahl der Studierenden, die die Veranstaltung im Stundenplan gespeichert haben. In Klammern die Anzahl der über Gastaccounts angemeldeten Benutzer*innen.
Adresse:
WS2003_281039@ekvv.uni-bielefeld.de
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Reichweite:
Keine Studierenden per E-Mail erreichbar
Hinweise:
Weitere Hinweise zu den E-Mailverteilern
Letzte Änderung Grunddaten/Lehrende:
Freitag, 11. Dezember 2015 
Letzte Änderung Zeiten:
Mittwoch, 11. Juni 2003 
Letzte Änderung Räume:
Mittwoch, 11. Juni 2003 
Art(en) / SWS
V / 2
Einrichtung
Fakultät für Physik
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1076624